公开号：	US2007132445A1
大类：	国外
行业类型：	仪器
行业内分类：	测量
专利名：	接近度敏感缺陷监视器
摘要：	该项发明是关于检测处理图象缺陷的一个方法，在半导体产品制造中产生缺陷。例如薄片，通过分析产品外壳的电路设计以及修正常规测试缺陷结构，以模仿产品外壳从而合并一个或多个孤立的或其他特征，包括产品外壳电路特征，这些特征很可能导致进入测试缺陷结构中的处理图象缺陷。