公开号：	US2007030568A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法料
专利名：	高反射率可见光反射器元件，应用该元件的液晶显示器背光组件，及高反射率可见光反射器元件的生产
摘要：	本发明涉及的反应器元件包含一层银薄膜。制备步骤为：先在薄膜银上制备一层氮化硅保护膜作为基层，再于该基层上形成银薄膜。该银薄膜具有与主平面相同的取向（111）。最理想的情况下，可以达到99%以上，且银薄膜的厚度在100nm至350nm范围内。