公开号：	US2007101939A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法料
专利名：	沉积体系及基座部件在基板上形成沉积膜
摘要：	寄生沉积是在沉积系统中控制，在基底上沉积形成一层膜，该定义用于一个反应室沉积系统接收基板并包括在反应室工艺气体和内表面连续式镀膜系统，这种控制是由内表面之间的流动，至少部分的工艺气体，形成一个缓冲气体的气体阻隔层，使得气体阻隔层内表面和气体成分相互接触。一个利用工艺气体在基板上沉积一层膜，包括一个反应室用于接收基底和工艺气体。该系统还包括一个内部表面连续的反应室。一个缓冲气体供应系统，该系统提供一个流动的缓冲气体，使得流动的缓冲气流形成一个气体阻隔层，来抑制气体在反应室中处理过程时内表面和工艺气体的接触。