公开号：	US2006254078A1
大类：	国外
行业类型：	机械
行业内分类：	制冷、干燥及热交换器
专利名：	基板处理过程中利用半月板的装置和方法
摘要：	本发明提供一种处理基板的方法。本方法包括在基板表面活跃区域使用一种活性剂。本方法还包括在基板表面产生一种液态半月板，并接近头部，液态半月板围绕在活跃区域。举一例子，用活性剂处理基板表面包括一个侵蚀操作，清洁操作，冲洗操作，电镀操作，或光刻操作，同时带有液态半月板的基本表面处理包括一种蚀刻操作，清洁操作，冲洗操作，电镀操作，干燥作业，或光刻操作。