公开号：	US2007019306A1
大类：	国外
行业类型：	仪器
行业内分类：	光学
专利名：	投影光刻和微透镜的制备及其方法
摘要：	这里介绍了一些方法和系统，关于利用微透镜阵列的表面反应，包括微光学元件嵌入或由支助部分支持和从地面定位在距离上基本等于用分隔符元素组成图像距离。微透镜阵列可用于操纵入射能量或辐射，具有属性分配定义对象的模式，形成一个在基板表面相应的图像模式。能量可以有一个模式或某个特定波长，强度或偏振或干涉一致。图像模式可以有100纳米的级别，或具有毫米级别相关物模式特征，对象模式尺寸可由上述100个或更多微透镜阵列减少，需要一个步骤就能形成图像模式。