公开号：	US2007099098A1
大类：	国外
行业类型：	仪器
行业内分类：	光学
专利名：	应用于光刻的匹配映射系统的方法
摘要：	本发明提出一种在基底中第二模式层覆盖在第一模式层上的层与层层叠的改进方法。将一系列不同的第一参考标记放置在第一掩模的一个模式区中，用以形成第一模式层。将一系列不同的第二参考标记放置在第二掩模中，用以形成第二模式层，其中一个第二参考标记与一个第一参考标记有相同的坐标(x,y)。制成的第一、第二模式层中的参考标记的位置由度量值决定，以确定每个参考标记对的x、y方向的偏差。本发明采用了一个校正算法来计算曝光设备的调整值，以在随后的曝光中优化第二模式层向第一模式层的覆盖。