公开号：	US2007165199A1
大类：	国外
行业类型：	仪器
行业内分类：	光学
专利名：	沉浸光刻扫描仪
摘要：	本发明提供一种沉浸光刻系统，包括：一个透镜系统，其放置于可将辐射源发射的辐射聚焦到工作台上的工件或薄片上的位置。一个液体供给系统，将水注到透镜系统的最靠近薄片的透镜之间。一个密封件包围着一定体积的液体，以保证这些透镜的下方或湿表面湿润。密封件放在透镜静止的位置，与工作台相邻。系统提供一种曝光处理期间保证透镜湿润的改进办法。