公开号：	US2007195411A1
大类：	国外
行业类型：	仪器
行业内分类：	光学
专利名：	微光刻光学系统
摘要：	本发明提供一种光学系统，如一个照明系统或一个微光刻曝光系统的投影透镜。该光学系统有一个光轴，并包含至少一个包含单轴光学材料的光学元件，其普通折射率为no，非常折射率为ne，用于光学系统的工作波长。非常折射率ne可大于普通折射率no。该光学元件可吸收工作波长的光线，该光线与光轴成一个入射角进入光学元件，该入射角在一个角度范围内。一个P偏振元件的光线要显著强于S偏振元件的光线。