公开号：	US2007258080A1
大类：	国外
行业类型：	仪器
行业内分类：	光学
专利名：	Lithographicapparatusandmethod
摘要：	利用真空让基板安装架抓住一块基板，密闭空间的真空就在基板安装架和基板之间。