公开号：	US2007264591A1
大类：	国外
行业类型：	仪器
行业内分类：	光学
专利名：	压印光刻
摘要：	做印记模板的方法，包括基板在上的传输层，其上有可以压刻的介质层，使用主压印模板将模型压印该介质中，将该介质暴露在光化辐射中进行聚合，然后蚀刻所产生的聚合物层，传输层和基材，这样使印迹模型转移到基板，基板就有一个和主压印模板上的图案相反的图案。