公开号：	US2007287073A1
大类：	国外
行业类型：	仪器
行业内分类：	光学
专利名：	光刻系统及其方法
摘要：	本设计提供一种光刻系统和设备。一个较好的光刻系统实例包括一个支撑作为底座，一个投影镜头系统，一个集光镜使光直接照射在支架上，使底座沿着光路方向通过投影镜头系统，在光路中至少有一个菲涅尔元件。