公开号：	US2008043321A1
大类：	国外
行业类型：	仪器
行业内分类：	光学
专利名：	超紫外线光学
摘要：	一方面，制造EUV光源反射镜的方法包括：提供一系列离散基片；给每个基片涂上多层涂层；加固带涂层的基片，使每块基片朝向共同的聚焦点；磨光至少一个涂层。另一方面，利用EUV光线的光学仪器包括：一块基片；一个从Si,C,Si3N4,B4C,SiC和Cr等多种材料中选出的光滑层，该层用高活性沉淀物和多层电解质涂层固定。还有，抗腐蚀物，EUV反射镜的多层涂层包含Si、氮和第五周期过渡金属元素的交替层。