公开号：	US2008076035A1
大类：	国外
行业类型：	仪器
行业内分类：	光学
专利名：	相移掩膜结构和制作工艺
摘要：	本发明描述了光掩膜制作光掩膜的方法。一方面，光掩膜包括：衬底；具有外围区的多层堆，通过集中能量为辐射的理想波长提供不透明环境；用于多层堆的第一、第二薄膜，它们的厚度用来提供理想相移和衰减。