公开号：	US2008076046A1
大类：	国外
行业类型：	仪器
行业内分类：	光学
专利名：	光学测量的精度
摘要：	本发明提供了提高光学测量精度的方法和系统。改变光学特性的方法和系统可用于生产电子装置，如集成电路。本发明提供的抗腐蚀层的方法和系统具有曝光前第一光学特性和曝光后第二光学特性。