公开号：	US2008145774A1
大类：	国外
行业类型：	仪器
行业内分类：	光学
专利名：	转印微影技术
摘要：	提出了一种转印微影技术装置，包括：支持微印模板的支撑结构；含有中性层的微印模板，中心层实质上将模板二等分；一个执行器，当模板被支撑结构所支撑时，执行器位于支撑结构和模板某一边的中间位置，执行器在与中性板有偏移的位置与微印板接触。