公开号：	US2008261119A1
大类：	国外
行业类型：	仪器
行业内分类：	光学
专利名：	Large-SizeGlassSubstrateForPhotomaskandMakingMethod,Computer-ReadableRecordingMedium,andMotherGlassExposureMethod
摘要：	本专利制备了一种可以用于光掩膜板成形的大型玻璃基底。该玻璃基底的制作是将一大型玻璃基底块进行处理，（1）基于在垂直方向的高度数据压平量加上畸变补偿量。畸变补偿量是由以下几个部分计算：（2）由基底块自身重量在水平位置产生的倾斜，（3）通过仪器外部拍击产生的光掩膜基底畸变，（4）用于支撑母玻璃的压盘的一个准确扭曲。