公开号：	US2006227334A1
大类：	国外
行业类型：	仪器
行业内分类：	测量
专利名：	曝光装置中带有可变数值光圈的投射光学系统的色差测量方法
摘要：	在该说明书中所展示的方法是一个色差测量方法，其中用冷凝光系统聚合的光通量入射到所测量的光学系统的，通过待测光学系统的光通量由反射光系统的反射，反射光系统在待测光学系统的光射出面的光聚合点有一个曲率中心，反射的光通量再次被射入待测光学系统中，并且待测光学系统的波阵面的色差，作为干涉条纹使用再次通过待测光学系统的光通量探测。当改变待测光学系统的的数值光圈，使其大于实际使用的数值光圈时，执行测量，由此实现了待测光学系统的有效数值光圈的波阵面色差的高精度测量。