公开号：	US7183025B2
大类：	国外
行业类型：	仪器
行业内分类：	光学
专利名：	相位差检定方法
摘要：	相移掩模有第一、第二掩模组成。第一个掩模是使第一光学图像成形在底板上的胶片。第一个光学图像产生一个抗蚀图，其宽度由相移掩模与底板之间的距离决定。第二个掩模是半透射胶片，让第二光学图像成形。第二光学图像产生的抗蚀图的宽度由相移掩模与底板之间的距离及半透射胶片的厚度决定。为了使两光学图像的宽度变化率相同，第二掩模的负荷率进行了相应的设置。