公开号：	US7221434B2
大类：	国外
行业类型：	仪器
行业内分类：	光学
专利名：	曝光方法及仪器
摘要：	曝光仪器的曝光方法使用投影光学系统将掩模图案暴露在平板上，它包括：获得第一掩模平坦信息的步骤；利用投影光学系统投影第一掩模图案的条件；驱动系统的驱动量信息，它能够改变基于像面条件的平板上图像条件；第二淹没的平坦度信息，使用第一第二掩模平坦度信息改变驱动量信息；基于驱动系统的驱动量信息来驱动系统将投影光学系统的第二掩模图案投影到平板上。