公开号：	US7244533B2
大类：	国外
行业类型：	仪器
行业内分类：	光学
专利名：	平版印刷术中系统的可调匹配图案方法
摘要：	为提高基座上第二层图案在第一层图案上的层与层间的覆盖，提出一种方法。第一层模具用于形成第一层图案，许多第一参考模具放在第一层模具上的图案区域内。第二层模具用于形成第二层图案，许多第二参考模具放在第二层模具上的图案区域内，且第二参考模具与第一参考模具相同的坐标匹配。放在得到的第一和第二层图案中的参考模具通过计量来确定每对匹配的参考模具的X和Y偏差。使用一种矫正算法计算暴露工具设计中的调整，用于提高随后的暴露中，第二层图案在第一层图案上的覆盖。