公开号：	US7252395B2
大类：	国外
行业类型：	仪器
行业内分类：	光学
专利名：	MEMS设备转向限制器
摘要：	微镜阵列制作在半导体基底上。该阵列有三个操作层。处理层制作在基底上。铰接层在处理层上面，之间有空气间隙。镜子层在铰接层上形成了第二个空气间隙。铰接层下有一个铰链连接到镜子，铰链允许镜子倾斜。铰接层在镜子下游弹簧末端连接到处理层。这些弹簧为镜子提供了一个固定的放置位置。