| 摘要： | 摘要：该装置和方法用于检测标本或图案基板，如光掩膜，有害颗粒和产品特点，特别是那些相关接触，包括不规则形状的接触。标本是由来自光学系统的激光照射，光学系统包括一个激光扫描系统，单独的透射光和（或）反射光的收集部分和光学探测器，它可以收集和产生由基板传送的光的代表信号。通过上述光信号可以识别基板缺陷。通过参考样本与测试样本图像特征的比较，利用识别算法识别缺陷，并使用边界计算机设备和流量比较装置在触电周围建立严格的界限，并计算测试和参考样本接触的流通量差。据报道，将缺陷尺寸作为流量差比率，并且加强了整体的联系。 |